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產(chǎn)品資料

成都西野:ULVAC愛發(fā)科光學(xué)薄膜用EB槍

如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱: 成都西野:ULVAC愛發(fā)科光學(xué)薄膜用EB槍
產(chǎn)品型號: EGO-40M
產(chǎn)品展商: ULVAC愛發(fā)科
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

成都西野:日本ULVAC愛發(fā)科光學(xué)薄膜用EB槍


成都西野:ULVAC愛發(fā)科光學(xué)薄膜用EB槍  的詳細介紹

光學(xué)薄膜用EB槍

自我系列

EGO-40M

ULVAC

它是基于ULVAC多年技術(shù)積累而設(shè)計的高可靠性EB槍。

特征

  • 高性能偏轉(zhuǎn)線圈實現(xiàn)了出色的掃描性能和穩(wěn)定且高度均勻的氣相沉積工藝。

采用

  • 用于電子束沉積的蒸發(fā)源

規(guī)格

模型 EGO-1G EGO-40M EGO-206M EGO-406M
光束偏轉(zhuǎn)角 270°
坩堝數(shù)量 0 6 6
坩堝容量 ―――― 10cc x 2 / 40cc x 2 20cc 40cc
冷卻水量 ―――― 10升/分鐘 10升/分鐘 10升/分鐘
線圈 2升/分鐘 ―――― ―――― ――――
外形尺寸 W × D × H 168 x 285 x 174 毫米 170 x 309 x 174 毫米 200 x 339 x 176 毫米 200 x 339 x 176 毫米
大量的 10公斤 18公斤 18公斤 18公斤
適用電源 HPS-1000N-G100 / G200
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